上海新阳、彤程新材、南大光电均为中国光刻胶领域的领先企业，各自在光刻胶产品的研发、生产和市场定位上有所不同。

上海新阳

产品线：上海新阳在光刻胶产品方面覆盖较为全面，涉及i线、KrF、ArF干法以及ArF浸没式光刻胶。公司致力于突破高端光刻胶技术，特别是在ArF浸没式光刻胶方面，产品已达到较高技术水平，适用于28纳米及以上的集成电路制造工艺。

技术优势：上海新阳在光刻胶技术研发上持续投入，与多家集成电路制造商建立合作，进行产品验证和应用评估，推动其光刻胶产品在本土市场的应用和进口替代。

市场定位：侧重于高端市场，特别是集成电路制造中的先进节点应用，致力于满足国内半导体产业对高端光刻胶的需求。

彤程新材

产品线：彤程新材重点发展ArF高端光刻胶，特别是ArF干法和ArF浸没式光刻胶，已进行了大额投资以加速该类光刻胶的研发和产业化进程。

技术优势：彤程新材通过与高校、研究机构及行业伙伴合作，不断推进技术创新，加强其在高端光刻胶领域的技术积累和产品竞争力。

市场定位：同样定位于高端市场，专注于满足国内对高端光刻胶的迫切需求，特别是针对先进集成电路制造中的光刻工艺。

南大光电

产品线：南大光电在光刻胶产品方面也取得了显著成就，其ArF光刻胶产品已进入多家客户验证阶段，适用于28nm到90nm工艺节点，是其光刻胶业务的重点。

技术优势：南大光电在光刻胶的合成、纯化及应用技术上拥有自主知识产权，持续优化产品性能，加快产品迭代，提升市场竞争力。

市场定位：致力于成为国产光刻胶技术的领航者，通过与国内半导体产业链紧密合作，推动产品验证和批量应用，以实现对进口产品的有效替代。

综上所述，这三家公司虽在光刻胶产品上各有侧重，但均在ArF光刻胶，尤其是ArF浸没式光刻胶方面发力，目标在于突破高端光刻胶技术，满足国内集成电路产业对高端材料的紧迫需求，推进半导体材料的国产化进程。