导读：市场突变！日本也要研发EUV光刻机，外媒：想弯道超车了？

现在全球就只有ASML一家能造EUV光刻机，别的企业都造不出来。为啥呢？一方面，EUV光刻机制造难度确实大，供应链又多，ASML把这些供应链都紧紧抓在自己的联盟圈子里，其他企业根本拿不到核心元件。另一方面，ASML在EUV技术方面申请了好多专利，其他企业想绕开这些专利太难了，不绕吧又会侵权，也很麻烦。

另外，别看EUV现在这么火，其实真正的市场没想象中那么大，市场根本养不活太多做EUV光刻机的企业。一家企业做能活得挺好，要是有两家、三家，那就不一定了。所以这些年，大家就看着ASML一家独大，其他企业大多都不往EUV方向搞研发了，反而去研究NIL、BEL、DSA、X射线这些方向，想找出一条和EUV不一样的路。因为只有和它不一样，才有可能颠覆它，要是跟在ASML后面，很难把它打败。

最近，日本科学界吹了个牛，说也要研发EUV光刻机。原因是他们找到了另一条路，据说一旦成功，能把EUV光刻机的成本降低75%，只要ASML产品价格的四分之一。他们的办法是对同轴（in - line）光学架构动手，对现有的EUV整套照明系统、投影物镜来个颠覆性的重新设计，然后再用半径凹凸反射镜组合，最后形成EUV方案。

日本研究团队说，这样做能达到2 - 3nm的精度，成本还能降低75%，能让更多企业买得起EUV光刻机，这样就能推动先进工艺快速发展，满足现在AI等芯片的需求。

日本这项研究的意义在于，一方面绕开了ASML在EUV上的大量专利，开辟了新路子；同时也绕开了ASML绑定的一些核心供应商，像蔡司的特镜系统等，让其他企业有可能不通过这些供应链，实现核心元件的量产。

不过，目前他们这更多只是理论，就做了个仿真测试，连样机都没有，纯粹就是做了个模拟性的测试，而且还是在反射镜100%无损耗、零缺陷的情况下得出的结论。

但实际上到真正量产的时候，会有各种各样的问题。所以我觉得现在真就是吹牛阶段，从吹牛到最终量产，不知道要多少年，甚至有可能永远都搞不出来。

但不管怎么说，日本的这项研究多少还是会给行业带来一些思考和参考。现在大家被EUV这事儿困扰很久了，特别是咱们，所以自然是希望EUV能有突破的。