近日，英特尔表示，ASML的首批两台 High NA EUV光刻机已在其工厂“投入生产”，比早期型号更可靠。

作为目前全球最先进的光刻机，High NA EUV的售价约3.5亿美元（约人民币25.4亿元），可以说是天价！远高于 ASML标准EUV系列的1.8亿~2亿美元。

图源：英特尔

据悉 High NA EUV 光刻机的高度超过一间会议室，长度远超前一代设备，规格特殊且极其精密，预计每小时可曝光超过185片晶圆，支持2nm以下逻辑芯片及相似晶体管密度的存储芯片量产。

一季度内生产30000片晶圆，可以生产数千个计算芯片。

在先进制程芯片制造中导入高数值孔径EUV产品，可简化制程工序、减少光罩数量，达到产能和良率提升，减少制造每片晶圆的能耗。

在初步测试中，ASML的新型High NA EUV设备可靠性大约是上一代的两倍。新的ASML EUV设备使用光束将特征打印到芯片上，也可以使用更少的曝光完成与早期设备相同的工作，从而节省时间和钱。

图源：ASML

英特尔工厂的早期结果表明，High NA EUV设备只需一次曝光和“个位数”的处理步骤就可以完成早期设备需要三次曝光和大约40个处理步骤才能完成的工作。

英特尔计划使用High NA EUV设备来帮助开发Intel 18A（1.8nm）制造技术，该技术计划于今年晚些时候与新一代PC芯片一起量产。

用时利用High NA EUV设备在2026至2027年间实现Intel 14A制程技术的量产，并在此基础上进一步提升制程技术。

图源：英特尔

英特尔花了七年时间才将这些早期设备投入全面生产，由于时间过长才导致慢慢落后于台积电，目前加速High NA EUV设备进行量产，也是英特尔战略转变的一部分。